真空蒸發(fā)鍍膜

真空蒸發(fā)鍍膜是在真空條件下，用氣體在工件表面形成一層薄膜的工藝。它是利用物質(zhì)的蒸發(fā)現(xiàn)象制成的。利用蒸發(fā)得到的薄膜有兩種：一種是熔融金屬蒸氣，它在惰性氣體中或真空中以液態(tài)形式存在，是固態(tài)薄膜；另一種是固態(tài)固體薄膜，即具有高的表面能，且能在真空中蒸發(fā)，但沒有固態(tài)的物質(zhì)存在。蒸發(fā)鍍膜法多用于金屬、半導(dǎo)體等材料和無機(jī)非金屬材料。

真空鍍膜工藝技術(shù)發(fā)展很快，目前已出現(xiàn)了多種形式的鍍膜設(shè)備。按工作原理不同可分為熱蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜、化學(xué)氣相沉積（CVD）、物理氣相沉積（PVD）。按薄膜狀態(tài)不同可分為：固態(tài)膜、液態(tài)膜、氣態(tài)膜和混合態(tài)。

真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)發(fā)展很快，技術(shù)也日益成熟，它已成為許多公司獲得高附加值產(chǎn)品的主要途徑。根據(jù)薄膜種類及應(yīng)用要求的不同，可分為以下幾種：

（1）熱鍍法：利用真空加熱金屬或合金使其蒸發(fā)鍍上一層薄膜，如利用氧、氮、氬等氣體或含有這些氣體的混合物來鍍制金屬薄膜；

（2）化學(xué)氣相沉積法：利用物理方法在金屬表面生長(zhǎng)一層或多層金屬膜；

（3）濺射法：利用真空條件使低能電子（如離子）與靶材碰撞而產(chǎn)生濺射現(xiàn)象，如用惰性氣體和不含離子的濺射沉積膜等；

4）等離子體法：利用等離子體的強(qiáng)能量，在真空條件下沉積薄膜，如用離子束、電子束或電子束等離子體沉積膜；

（5）蒸發(fā)沉積法：利用真空蒸發(fā)技術(shù)在真空條件下將固體材料（如金屬或合金）蒸發(fā)鍍制成薄膜。

真空蒸發(fā)鍍膜工藝原理是：將含有低能電子的物質(zhì)加熱，使之成為具有高能量的等離子體，當(dāng)?shù)入x子體與靶材碰撞時(shí)，發(fā)生激烈的化學(xué)反應(yīng)，從而在工件表面形成一層薄膜。其主要優(yōu)點(diǎn)有：

（1）工藝過程不受工件尺寸限制；

（2）制備的薄膜具有較高的純度和較好的表面光潔度；

（3）膜層具有較好的附著力、耐磨性和較高的耐蝕性；

（4）可制備復(fù)雜形狀的薄膜。

真空蒸發(fā)鍍膜工藝目前最廣泛采用的是等離子體蒸發(fā)沉積法，但由于其存在一些缺點(diǎn)，使它在工業(yè)生產(chǎn)上受到限制。